لزوم رقابت در صنعت نیمههادی؛ چین به نظر نمیرسد در دهه آینده به فناوریهای ASML دست یابد
بهنظر میرسد چین قادر نخواهد بود بهسرعت در زمینه تولید نیمهرساناها پیشرفت کند و تا یک دههی آینده به توسعهی جایگزینی کارآمد برای فناوری فرابنفش فرین شرکت ASML نخواهد رسید.
براساس گزارش بلومبرگ، پکن بهطور قابل توجهی در حوزه صنعت تراشه اقدام به سرمایهگذاریهای دولتی کردهاست تا به خودکفایی دست یابد، اما موانع صادراتی که از سوی واشنگتن ایجاد شده، روند پیشرفت را به چالش کشیده است.
تحلیلگران UBS معتقدند که بررسی پتنتها بهویژه در زمینهها و زیرسیستمهای نوری نشانگر این است که وضعیت کنونی چین شبیه به موقعیت ASML در سال ۲۰۰۴ است.
فرانسوا خاویر بووینیه، رئیستیم تحلیلگران UBS، اظهار داشت: «بهنظر میرسد آنها در موقعیتی نزدیک به وضعیت ASML در سال ۲۰۰۴ قرار دارند.»
شرکت هلندی ASML تنها تولیدکنندهی دستگاههای پیشرفتهی لیتوگرافی در سطح جهانی است که نقشی اساسی در تولید تراشههای مدرن برای شرکتهای بزرگی چون انویدیا ایفا میکند. تحریمها مانع از فروش پیشرفتهترین ابزارهای لیتوگرافی فرابنفش فرین به بازار چین شده، اما بهنظر میرسد که پکن در دو تا پنج سال آینده به تولید انبوه دستگاههای لیتوگرافی فرابنفش عمیق غوطهوری دست پیدا کند.
تحلیلگران UBS درخصوص صادرات تجهیزات چینی اظهار دارند: «با در نظر گرفتن شکافهای ممکن در عملکرد و توان عملیاتی نسبت به ASML، به همراه محدودیتهای نظارتی، احتمالاً ابزارهای لیتوگرافی چینی در خارج از مرزهای آن کشور بهکار نرود.»
دستگاههای غوطهوری DUV نقش مهمی در چاپ الگوهای مداری روی ویفرهای سیلیکونی ایفا میکنند و با قیمتی نزدیک به ۹۰ میلیون دلار به فروش میرسند. در حالی که تجهیزات پیشرفتهتر EUV قیمتهایی فراتر از ۲۰۰ میلیون دلار هر دستگاه را به خود اختصاص میدهند.
